Produkte
Zu den Hauptprodukten gehören 182mm und 210mm großformatige monokristalline Siliziumwafer
N-Typ
Sauerstoffarmes Großwärmefeldverfahren Hocheffiziente Silizumwafer nach kundenspezifischen Anforderungen Hohe Reserve der Produktionskapazität
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P-Typ
Ausgereiftes Herstellverfahren mit moderner Ausrüstung Präzisere Erfüllung kundenspezifischer OEM-Anforderungen Prozess für niedrigen Leistungsabfall des Produktes
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Wesentliche Vorzüge
Großformat, Dünnschicht, Planung und Fertigung nach dem Prinzip “Hohes Startniveau, hoher Standard und hohe Effizienz”, Bestrebung nach einem Vorzeigeunternehmen in der globalen Photovoltaikbranche
Ausgereiftes Verfahren, hocheffiziente N-Typ-Technologie
Beherrschung einer Reihe von Schlüsseltechnologien, darunter der Technologie zum Aufziehen großformatiger N-Typ Monokristalle, der Technologie zur Herstellung großformatiger Wafer und der Technik zur automatisierten Herstellung von Siliziumwafern, usw.
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Gokin bietet Ihnen professionelle Beratungsdienstleistungen, N-Typ Silizium Wafer Produktinformationen, Geschäftsmodelle der Photovoltaik-Industrie sowie Funktionen für den Betrieb und die Wartung des gesamten Lebenszyklus. Rufen Sie uns an.
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